X射线光电子能谱仪 XPS
X射线光电子能谱仪 XPS
仪器编号
2018007330
购置日期
2018-01-01
生产厂家
ULVAC-PHI
型号
PHI5000 VersaProbe III
制造国家
日本
分类号
X射线及磁测量仪器
放置地点
122
联系人
高老师
规格参数

1.AIKa X射线可聚焦和扫描,最小采谱束斑≤10μm;可应对从大面积到微米级微区的分析应用需求;
2.开放式输入透镜,从大面积到微区信号灵敏度都高;无需磁透镜和选区光阑;
3.低能入射(≤100W),对材料化学态破坏小;
4.CCD和SXI定位,X-ray激发二次电子影像(SXI)与采谱同源,同光路,同探测器,可保证对分析点零误差精准定位;
5.化学态成像:每个像素点保存全部光谱数据;
6.采谱,SXI,化学态成像为同一系统;保证所见即所得,系统操作维护简单;
7.低能电子束和低能离子束双束准直中和设计用于绝缘材料分析。

应用领域

2018年9月投入使用,应用于表面领域的元素种类确定、元素化学结合状态推测以及原子浓度的计算,是一种材料的表面分析技术。通过结合物理或者化学的表面刻蚀技术,又可对材料深度方向的相关信息进行追踪调查,为半导体产业、有机高分子领域、以及科研机关提供解析数据。全年开放,年均工作超2500小时,测试样品数量达3000个/年,每年支持学校10余篇高水平论文的发表。

效果展示
X射线光电子能谱仪 XPS
暂无收费信息